- 產業Markets
半導體產業
- 應用Applications
晶圓刻印、打印、標記
- 材料Materials
6"-8" Bare wafer, Backside-coated wafer, molding compound substrate or L/F
可應用雷射刻印設備之材質
自行開發光學模組,取得材料最適配參數
Compound
字高 600um
Substrate
Code 2000*2000um
Ceramic
字高 110um
■ 支援多樣材料量產:6"-8" Bare wafer, Backside-coated wafer, molding compound substrate or L/F
■ 上下高精度影像對位&誤差補償
■ 高精度高速掃描頭
■ 自有研發設計團隊,軟硬體客製化彈性大
■ 智慧生產系統,依循SECS/GEM實現即時及遠端監控
■ 符合雷射作業安全規範
實際刻印效果
支援多種字型,加工後可進行雷射字型與刻印深度檢查
為何選擇FitTech惠特科技
FitTech專注於光電相關設備研發與製造,具備領先業界的研發能力與技術,可提供客戶更細緻、更精密的加工品質。
惠特擁有各領域的優秀人才及豐富的系統整合經驗,可協助客戶解決在自動化、Robot或系統整合的客製化需求。
惠特科技擁有專業光電技術與多年整合經驗,可提供客戶客製化整合,相較進口設備,惠特可提供專業且即時的服務。
General Specifications
Item | Specification |
---|---|
Application | 6” Wafer / 8” Wafer |
Marking Shift | ±15um @Field=15x15mm |
PC Control | Windows Base. 1 PC or dual PC are available |
Dimension & weight | (W)1200mm * (D)1300mm * (H)1800mm, 950 Kgs |